半导体设备 南京小草半导体有限公司成立于2024年,公司始终以客户需求为导向,持续创新,依托精良的品质及卓越的服务,与合作伙伴加强合作,打造半导体工艺装备技术、产品、服务一体化的专业解决方案平台,推动产业进步,创造无限可能! GM300 PVD系统介绍 设备特点 独特的AC磁控溅射 独特的磁场调节机制 独特的DC磁控溅射 独特的磁场调节机制辅助控制薄膜厚度和应力均匀性 产品应用 晶圆尺寸:6/8/12英寸 适用材料:氮化铝(AlN)、掺钪氮化铝(AlScN) 适用领域:压电MEMS、FBAR和SMR体声波滤波器量产